«Манхэттенский проект» Китая в сфере микрочипов

В Шэньчжэне китайские инженеры в обстановке строгой секретности работают над созданием собственного оборудования для производства современных микрочипов, включая те, которые используются в системах искусственного интеллекта. Об этом сообщает Reuters по итогам расследования. 

Проект формально позиционируется как национальная разработка, однако в его основе лежит опыт бывших сотрудников нидерландской компании ASML. Именно она производит литографические машины, без которых невозможно современное производство микросхем. По данным Reuters, ключевую роль в разработке играют китайские инженеры, ранее работавшие в ASML. 

Более современные компоненты для модернизации уже имеющихся в Китае установок ASML прежних поколений закупаются через посредников на вторичном рынке. Эту информацию подтверждает Financial Times. 

Источники Reuters сравнивают шэньчжэньский проект с Манхэттенским проектом США 1940-х годов. 

«Цель в том, чтобы Китай в итоге смог выпускать передовые чипы на машинах, полностью произведенных в Китае», — пояснил один из собеседников агентства. 

По его словам, Пекин стремится полностью исключить Соединенные Штаты из своих технологических цепочек поставок. 

Вашингтон в последние годы усилил контроль за экспортом в Китай полупроводниковых технологий и добивается аналогичных ограничений от союзников, включая Нидерланды, Тайвань, Японию и Южную Корею. На этом фоне еще шесть лет назад председатель КНР Си Цзиньпин поставил задачу добиться полной технологической самодостаточности в сфере микрочипов. 

Проект по созданию установок для экстремальной ультрафиолетовой литографии курирует доверенное лицо Си Цзиньпина Дин Сюэсян, возглавляющий Центральную научно-техническую комиссию Компартии Китая. 

Прототип EUV-машины был завершен в начале 2025 года. Он создан на основе разбора и анализа имеющихся у Китая аппаратов ASML прежнего поколения, а также деталей, приобретенных через посредников. В настоящее время установка проходит испытания. 

Пекин рассчитывает начать выпуск рабочих микросхем на этом оборудовании к 2028 году. Источники, близкие к проекту, считают более реалистичным сроком 2030 год. Даже в этом случае прогресс Китая идет быстрее ожиданий аналитиков, которые ранее оценивали разрыв с Западом в производстве микросхем примерно в десять лет. 

В проекте задействованы несколько вышедших на пенсию инженеров ASML китайского происхождения. По данным Reuters, им выдали удостоверения личности на вымышленные имена, чтобы исключить возможность их идентификации и связей с прежним работодателем. 

Financial Times также сообщает, что Китай сумел модернизировать имеющиеся установки ASML для глубокой ультрафиолетовой литографии. Это позволило нарастить выпуск чипов для систем искусственного интеллекта и современных смартфонов.